光阻剂是什么？ 光阻剂和去光阻剂成分、差异、使用方式及产业用途探析

光阻剂是什么？ 光阻剂成分及原理说明

光阻剂（也称为光阻），主要应用于电镀或蚀刻等工业制程中，光阻剂一般为高分子、溶剂、光感剂等成分组成的光敏材料，并透过光反应刻 上结构图形，是影响半导体制程生产效率的关键材料。

光阻剂主要分为正向光阻（Positive Photoresist）、负向光阻（Negative Photoresist）两种

• 正型光阻：未照到光的部份不会溶于光阻显影液，光阻照光区会溶于光阻显影液，分子断链溶解度变大，主要应于图形精细度要求 较高的半导体制程中。
• 负型光阻：负型光阻与正行光阻相反，经照光后不会溶于光阻显影液，分子交联、溶解度变小，是最早被应用在光刻制程的光阻剂 。

光阻剂和去光阻剂的差异说明

光阻剂与去光阻剂在用途上并不相同，两者差异如下：

• 制程角色：光阻剂主要用途为制作图形；去光阻剂利用剥离、溶解等方式完成去光阻制程。
• 成分差异：光阻剂一般为高分子材料；去光阻剂一般为有机溶剂或水溶液。

光阻剂如何使用

以半导体制程为例，光阻剂在不同光源条件下透过高分子断链或交联反应，搭配显影制程制作出图案，以利后续进行扩散、蚀刻、薄膜制程，再以去光阻 剂去除光阻层与清洗晶圆表面杂质。

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